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型號(hào):HAL

超高真空殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀

描述:A Residual Gas Analyser configured for demanding UHV applications. Measures the concentration of gases and vapours in real time.

  • 廠商性質(zhì)

    進(jìn)口
  • 更新時(shí)間

    2020-11-23
  • 訪問量

    834
詳細(xì)介紹


英國Hiden公司的HAL 201 RC超高真空殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀專為檢測超高真空容器中的存在組分而設(shè)計(jì),針對真空診斷進(jìn)行精確的分析。

離子源為鍍金離子源,適合應(yīng)用在總壓小于5 x 10-10mbar的領(lǐng)域,其系統(tǒng)與EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀完全兼容。

 

 

            ·鍍金離子源,以減少離子源脫氣

            ·氧化物涂層雙銥絲的離子源

            ·雙法拉第/ Channeltron電子倍增器檢測器


 

·質(zhì)量數(shù)范圍:   200,300 amu

·掃描速度:      100amu/s

·最小掃描步階:0.01amu

·靈敏度:         0.1 ppm1ppm

·穩(wěn)定性:         24h以上,峰高變化小于±0.5%

·最小檢測分壓:5 x 10-14 mbar

·最大工作壓力:1 x 10-4 mbar

Mass Spectrometers for Residual Gas Analysis - RGA (1.35 MB)

 
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