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描述:A Residual Gas Analyser configured for demanding UHV applications. Measures the concentration of gases and vapours in real time.
英國Hiden公司的HAL 201 RC超高真空殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀專為檢測超高真空容器中的存在組分而設(shè)計(jì),針對真空診斷進(jìn)行精確的分析。 離子源為鍍金離子源,適合應(yīng)用在總壓小于5 x 10-10mbar的領(lǐng)域,其系統(tǒng)與EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀完全兼容。
·鍍金離子源,以減少離子源脫氣 ·氧化物涂層雙銥絲的離子源 ·雙法拉第/ Channeltron電子倍增器檢測器
·質(zhì)量數(shù)范圍: 200,300 amu ·掃描速度: 100amu/s ·最小掃描步階:0.01amu ·靈敏度: 0.1 ppm~1ppm ·穩(wěn)定性: 24h以上,峰高變化小于±0.5% ·最小檢測分壓:5 x 10-14 mbar ·最大工作壓力:1 x 10-4 mbar Mass Spectrometers for Residual Gas Analysis - RGA (1.35 MB) |
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