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描述:A system for UHV analysis of neutrals, radicals and ions. Measures the ions, neutrals, and partial pressures in UHV/XHV.
EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀(EPIC Systems with Pulse Ion Counting and Pole Bias Control)是帶脈沖離子計(jì)數(shù)和四級(jí)桿偏壓控制的三級(jí)過濾四極質(zhì)譜儀,用于高精密科學(xué)分析,過程研究以及中性粒子、自由基、正負(fù)離子的UHV分析。 EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀可增加能量過濾器、Bessel Box能量分析器或45°扇形能量分析器,升級(jí)至Hiden的Plasma/ SIMS系列EQP,EQS,PSM 和Maxim。
·6、9、12 mm 直徑的四極桿可選 ·±100 eV離子能量分布,1000 eV可選 ·離子源控制,以實(shí)現(xiàn)軟離子化及表觀電勢(shì)質(zhì)譜 ·脈沖離子計(jì)數(shù)器,連續(xù)7個(gè)數(shù)量級(jí)動(dòng)態(tài)范圍,Faraday 選項(xiàng)為5x1010 ·一級(jí)過濾處增加射頻,增強(qiáng)抗污染物能力 ·信號(hào)選通分辨率0.1μs,用于能量、質(zhì)量分布隨時(shí)間變化或TOF研究中 ·程序升溫脫附時(shí),溫度數(shù)值同步顯示 ·標(biāo)配UHV罩,液氮冷卻罩可選 ·MASsoft專業(yè)軟件控制 ·可升級(jí)至Plasma/ SIMS 配置
·質(zhì)量數(shù)范圍: 1~300 amu(標(biāo)準(zhǔn)配置) 500、1000、2500 amu(選配) ·測(cè)量速度: 500 points/s ·分辨率: 0.1% Valley、1% Valley ·動(dòng)態(tài)范圍: 107 ·最低檢測(cè)分壓: 5 X 10-15 mbar ,1X10-16 mbar ·離子能量: ±100eV(標(biāo)準(zhǔn)配置) ±1000eV(選配) ·信號(hào)選通分辨率:0.1μs ·穩(wěn)定性: 24h以上,峰高變化小于±0.5% 3F Series Mass Spectrometers (0.68MB) Mass Spectrometers for Residual Gas Analysis - RGA (1.35 MB) |
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