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型號(hào):3F/EPIC

EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀

描述:A system for UHV analysis of neutrals, radicals and ions. Measures the ions, neutrals, and partial pressures in UHV/XHV.

  • 廠商性質(zhì)

    進(jìn)口
  • 更新時(shí)間

    2020-11-23
  • 訪問量

    694
詳細(xì)介紹

EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀(EPIC Systems with Pulse Ion Counting and Pole Bias Control)是帶脈沖離子計(jì)數(shù)和四級(jí)桿偏壓控制的三級(jí)過濾四極質(zhì)譜儀,用于高精密科學(xué)分析,過程研究以及中性粒子、自由基、正負(fù)離子的UHV分析。

EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀可增加能量過濾器、Bessel Box能量分析器或45°扇形能量分析器,升級(jí)至HidenPlasma/ SIMS系列EQP,EQS,PSM Maxim。

 

·6、9、12 mm 直徑的四極桿可選

·±100 eV離子能量分布,1000 eV可選

·離子源控制,以實(shí)現(xiàn)軟離子化及表觀電勢(shì)質(zhì)譜

·脈沖離子計(jì)數(shù)器,連續(xù)7個(gè)數(shù)量級(jí)動(dòng)態(tài)范圍,Faraday 選項(xiàng)為5x1010

·一級(jí)過濾處增加射頻,增強(qiáng)抗污染物能力

·信號(hào)選通分辨率0.1μs,用于能量、質(zhì)量分布隨時(shí)間變化或TOF研究中

·程序升溫脫附時(shí),溫度數(shù)值同步顯示

·標(biāo)配UHV罩,液氮冷卻罩可選 

 ·MASsoft專業(yè)軟件控制

·可升級(jí)至Plasma/ SIMS 配置

 

·質(zhì)量數(shù)范圍:      1300  amu(標(biāo)準(zhǔn)配置)

                           5001000、2500 amu(選配)

·測(cè)量速度:         500 points/s

·分辨率:            0.1% Valley1% Valley

·動(dòng)態(tài)范圍:         107

·最低檢測(cè)分壓:   5 X 10-15 mbar ,1X10-16 mbar

·離子能量:         ±100eV(標(biāo)準(zhǔn)配置)

                           ±1000eV(選配)

·信號(hào)選通分辨率:0.1μs

·穩(wěn)定性:            24h以上,峰高變化小于±0.5%


3F Series Mass Spectrometers (0.68MB)

Mass Spectrometers for Residual Gas Analysis - RGA (1.35 MB)

 
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