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型號(hào)：HPR-20 EPIC

HPR-20 EPIC 電子附著質(zhì)譜儀

描述：The Hiden HPR-20 EPIC gas analysis system is configured for continuous analysis of gases and vapours at pressures near atmosphere in standard form, alternative inlet systems being offered for applications requiring direct sampling from higher pressures to 30 bar.

  • 廠(chǎng)商性質(zhì)

    進(jìn)口

  • 更新時(shí)間

    2024-01-31

  • 訪(fǎng)問(wèn)量

    708
詳細(xì)介紹

        Hiden HPR-20 EPIC氣體分析系統(tǒng)用于大氣壓力下對(duì)氣體和蒸汽進(jìn)行連續(xù)分析，進(jìn)口壓力可擴(kuò)展至30bar高壓進(jìn)樣。


        Hiden QIC惰性石英毛細(xì)管進(jìn)樣系統(tǒng)，可加熱至200度，可測(cè)試包括水蒸氣在內(nèi)的大多數(shù)常見(jiàn)氣體和蒸汽，快速響應(yīng)時(shí)間小于300毫秒。


        該系統(tǒng)包括Hiden EPIC三級(jí)過(guò)濾四極桿質(zhì)譜儀，該質(zhì)譜儀包括一個(gè)帶正負(fù)離子檢測(cè)的脈沖離子計(jì)數(shù)電子倍增檢測(cè)器。包含標(biāo)準(zhǔn)的電子轟擊電離和表觀(guān)電位軟電離（APSI-MS）進(jìn)行分析。


        該系統(tǒng)包括可選的軟電離模式，電子附著質(zhì)譜（EA-MS），用于分析通過(guò)電子附著在內(nèi)部電離器內(nèi)形成的負(fù)離子。電子附著模式為研究電子遷移提供了重要信息。


特點(diǎn)：


DMM動(dòng)態(tài)多模式掃描-獨(dú)特應(yīng)用于電負(fù)性氣體研究的電子附著電離技術(shù)


質(zhì)量數(shù)范圍可擴(kuò)展至1000 amu


脈沖離子計(jì)數(shù)電子倍增檢測(cè)器：連續(xù)動(dòng)態(tài)范圍為107


QIC入口對(duì)氣體濃度變化的響應(yīng)時(shí)間<300 ms


快速掃描速度，每秒可進(jìn)行多達(dá)650次測(cè)量，用于瞬態(tài)分析



技術(shù)參數(shù)

      ·靈敏度高，檢測(cè)范圍從5ppb至100%

      ·離子源控制用于軟離子化和表觀(guān)電勢(shì)質(zhì)譜

      ·靈敏度增強(qiáng)有利于質(zhì)量數(shù)較大離子傳送

      ·6、9、12 mm直徑的四極桿可選

      ·多種離子源配置供選擇

      ·在一級(jí)濾過(guò)處增加射頻，抗污染物

      ·升溫脫附實(shí)驗(yàn)時(shí)，溫度數(shù)值同步顯示

      ·SEM或PIC檢測(cè)器，可選雙Faraday/ SEM或Faraday/ PIC模式

      ·通過(guò)RS232、USB或Ethernet連接計(jì)算機(jī)，MASsoft軟件控制 

      ·0～150eV全電子能量控制，與TIMS模式互補(bǔ)

 

       ·質(zhì)量數(shù)范圍：   1～300  amu（標(biāo)準(zhǔn)配置）

                           500、1000、2500 amu（選配）

      ·測(cè)量速度：      650 points/s

      ·分辨率：         0.1% Valley、1% Valley

      ·動(dòng)態(tài)范圍：      107

      ·最低檢測(cè)分壓：2 x 10-14 mbar

      ·軟離子化：      4～150eV

      ·穩(wěn)定性：         24h以上，峰高變化小于±0.5%




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