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型號：HPR30

過程氣體分析質(zhì)譜儀

描述：The HPR-30 is a residual gas analyser configured for analysis of gases and vapours in vacuum processes and for vacuum diagnostics.

  • 廠商性質(zhì)

    進(jìn)口

  • 更新時(shí)間

    2020-11-23

  • 訪問量

    904
詳細(xì)介紹

HPR-30真空過程氣體分析系統(tǒng)(Process Gas Analyser)，適用于監(jiān)測分析殘余氣體和真空工藝過程中的氣體組成及變化。

 

·簡潔的桌上型，移動推車或控制臺架結(jié)構(gòu)
·Direct re-entrant流孔板，差式泵，以達(dá)到最適宜的靈敏度
·軟離子化技術(shù)，分析復(fù)雜有機(jī)物，或表觀MS研究
·MASsoft軟件控制，或由局域網(wǎng)進(jìn)行多個系統(tǒng)控制
·氣動閥自動控制；出現(xiàn)電力不足或壓力過大等不安全狀況時(shí)可啟用手動隔離裝置
·自動、同時(shí)數(shù)據(jù)取得、分析，實(shí)時(shí)顯示、報(bào)警

 

·質(zhì)量數(shù)范圍：   1～200 amu(標(biāo)準(zhǔn)配置); 300、510、1000amu可選

·高靈敏度：     5ppb

·取樣壓力：     10-4mbar～1mbar 標(biāo)準(zhǔn)配置

                       1mbar～30bar 選配

·穩(wěn)定性好：     24h以上，小于峰高的±0.5%

·過程控制開關(guān)

·信號輸入、輸出接口

Hiden HPR-30 Series Process Gas Analysers (1.2 MB)

Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)

AP0002 - Surface Characteristics of Parylene-C Films in an Inductively Coupled O2/CF4 Gas Plasma (211 KB)

Partial Pressure Control in Reactive Sputtering (343 KB)

HPR-30 Monitoring TiN Depsoition (113 KB)

HPR-30 Vacuum Process Gas Analyser (1.4 MB)

 
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