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型號(hào)：IMP-EPD

等離子體刻蝕終點(diǎn)檢測(cè)儀

描述：The IMP-EPD is a differentially pumped, ruggedised secondary ion mass spectrometer for the analysis of secondary ions and neutrals from the ion beam etch process.

  • 廠商性質(zhì)

    進(jìn)口

  • 更新時(shí)間

    2020-11-23

  • 訪問(wèn)量

    695
詳細(xì)介紹

IMP離子蝕刻探針（Ion Milling Probe），自帶差式泵，堅(jiān)固的二次離子質(zhì)譜儀，適于分析離子蝕刻過(guò)程中的二次離子和中性粒子。獨(dú)有的專業(yè)終點(diǎn)檢測(cè)（End Point Detection）儀器，用于離子蝕刻控制以及過(guò)程質(zhì)量最優(yōu)化監(jiān)測(cè)。

 

·差式泵歧管，經(jīng)連接法蘭，接到過(guò)程室
·離子光學(xué)器件，帶能量分析器和內(nèi)置離子源
·Penning規(guī)和互鎖裝置，以提供過(guò)壓保護(hù)
·數(shù)據(jù)系統(tǒng)與過(guò)程控制工具整合

 

·高靈敏度的 SIMS / MS，帶脈沖離子計(jì)數(shù)檢測(cè)器
·三級(jí)過(guò)濾四極桿，標(biāo)準(zhǔn)配置質(zhì)量數(shù)為300amu
·穩(wěn)定性(24h以上，峰高變化小于 ±0.5%)
·通過(guò) RS232、RS485或以太網(wǎng)， 軟件MASsoft控制
·程控DDE, 平行數(shù)字式I/O，RS232通訊

IMP Series End Point Detectors (903 KB)

Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)

IBM Almaden Research Center | Advanced Instrumentation

Nanodevice Fabrication : Ion Beam Nano-Fabrication


 
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