二次離子質(zhì)譜工作站

描述：Hiden SIMS二次離子質(zhì)譜工作站提供高性能靜態(tài)和動態(tài) SIMS 分析，用于的表面成份分析和深度剖析。

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詳細(xì)介紹

SIMS 工作站(SIMS Workstation－a complete SIMS Analysis Facility) ，綜合UHV / SIMS 設(shè)備，進(jìn)行高級的表面分析?？煽康摹⑵毡檫m用的SIMS分析工作站。

·整合的離子源，便于RGA和SNMS

·各類型樣品的快速轉(zhuǎn)向

·陰、陽離子、中性粒子、自由基的質(zhì)量、能量分析儀

·整合的離子槍光柵控制和信號選通，進(jìn)行深度分析
·絕緣體研究中的電子流槍用于電荷中和
·液氮冷井和真空室烘烤加熱器
·自動的SIMS 離子光學(xué)透鏡調(diào)諧和質(zhì)量數(shù)列表，使SIMS性能最佳

·Hiden EQS SIMS 分析儀，運(yùn)行于 MASsoft O/S 之下，檢測限至ppb級

·基本的激發(fā)源選擇：帶差式泵的Hiden IG20 Ion，IFG200 FAB或高性能液態(tài)鎵槍
·快速樣品傳遞，樣品固定，負(fù)載鎖定的操縱器
·4 軸：X, Y, Z, θ UHV 操縱器，以最佳定位樣品
·加上ESM LabVIEW和SIMS 成像程序，進(jìn)行SIMS元素成像
·靜態(tài)SIMS譜圖庫可用